Chine Impression Nano-Circuits Impact ASML : 03 Scénarios Implacables Qui Ébranlent le Monopole
Chine impression nano-circuits impact ASML – L’annonce par la Chine de son premier prototype d’impression de nano-circuits représente bien plus qu’une avancée technique. Elle marque l’émergence d’une lithographie EUV alternative qui pourrait durablement ébranler le monopole d’ASML. Imaginez un géant dont les machines, vendues plus de 150 millions d’euros, étaient jusqu’ici incontournables pour produire les … Lire la suite